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韓國電鍍膜厚檢測儀精度高

簡要描述:韓國電鍍膜厚檢測儀精度高
我公司銷售產品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)等等

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-23
  • 訪  問  量:1488

詳細介紹

韓國電鍍膜厚檢測儀精度高

應用領域

分析各種電鍍鍍層厚度

鍍層檢測:

2.1、常見金屬鍍層有:

鍍層

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

2.2、單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內,

可最小測量達0.001um。

2.3、多層厚度范圍

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

2.4、鍍層層數(shù)為1-6層

2.5、鍍層精度相對差值一般<5%。

2.6、鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)

Ni層厚度(um)

保證精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

技術指標

多鍍層分析,1~5層;

測試精度:0.001 μm;

元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);

測量時間:10~30秒;

SDD探測器,能量分辨率為125±5eV;

探測器Be窗0.5mil(12.7μm);

微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);

6個準直器及多個濾光片自動切換;

高清CCD攝像頭(200萬像素),準確監(jiān)控位置;

多變量非線性去卷積曲線擬合;

高性能FP/MLSQ分析;

儀器尺寸:450×520×385mm。

圖譜界面

軟件支持無標樣分析;

寬大分析平臺和樣品腔;

集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面;

采用多種光譜擬合分析處理技術;

鍍層測厚分析可達到0.001μm。

分析報告結果

直接打印分析報告;
報告可轉換為PDF,EXCEL格式。

韓國電鍍膜厚檢測儀精度高

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